GRISH CMP抛光液是以硅溶胶为原料,针对不同研磨材料的特性进行*特配方设计,保证抛光过程中PH值基本保持不变,从而保证抛光速率的稳定及节约抛光时间。 产品规格: 型号 SO-80-PF SO-100-PF SO-80-FS 粒径 (nm) 70~90 90~110 70~90 外观 Cream color or translucent liquid 比重 1.10-1.30 组成 成分 含量 (w%) SiO2 15~45 产品特点: 1. 粒径均一(粒径分布窄,形貌呈正球状); 2. 抛光速率快(特殊配方,PH值稳定不变); 3. 高平坦化(表面质量Ra < 0.2nm, TTV < 3 u);; 4. 循环次数较多; 5. 可低温抛光 (35℃以下)。 应用范围: 广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。如,蓝宝石材料、硅片、不锈钢、铝镁合金、化合物晶体等的抛光加工。 价格仅供参考,详情联系官方进行报价。